真空狀態定義
在真空科學中（zhōng），真空的（de）含義是指在給定的（de）空間內低於一個大氣壓力的氣體狀態。人們通常把這（zhè）種稀薄的氣體狀態稱為真空狀（zhuàng）況。這種特定的真空狀態（tài）與人類（lèi）賴（lài）以生存的大氣在狀態相比較，主要有如下幾個基本特點：
（1）真空狀（zhuàng）態下的氣體壓力低於一個大氣壓，因此，處於地球（qiú）表麵上的各種真（zhēn）空容器中，必將受到大氣壓力的作用，其壓強差的大小由容器內外的壓差值而定。由於作用在地球表麵上的一個（gè）大氣壓約為（wéi）101325N/m2，因此當容器內壓力很小時，則容器所承受的大氣壓力可（kě）達到一個大氣壓（yā）。
（2）真空狀態下由於氣體稀薄，單位體積內的氣體分子數，即氣體的分子密度小於大氣壓力的氣體（tǐ）分子密度。因此，分子之間、分子與其他質點（如電子、離子等）之間以及分子（zǐ）與（yǔ）各種（zhǒng）表麵（如器壁）之間相（xiàng）互碰撞次數相對（duì）減少，使（shǐ）氣體的分子（zǐ）自由程變大。
工業真空概（gài）述：
工業上的真空指的是氣壓比一標準大氣壓小的氣體空間（jiān），是指稀薄的氣（qì）體狀態，又可分為高真空、中真空和低（dī）真（zhēn）空，地球以及星球中間的廣大（dà）太空就是（shì）真空。普通是用特製的抽氣機（jī）得到真空的。它（tā）的（de）氣（qì）體稀（xī）薄程度用真空計測定，現在已能用分子抽氣機和擴散抽氣機得（dé）到0.0000000001大氣壓的高真空。真空在科學技術，電真空儀器，電子管和其他電子儀器方麵，都有（yǒu）很大用途。
真空閥檢漏技術：
一個理想的真空（kōng）係統或者真空容器，應（yīng）當是不存在任（rèn）何漏孔，更不會（huì）產生任何漏（lòu）氣現象的。但是，就任（rèn）何真空係統或真空閥來說，不（bú）漏的（de）現（xiàn）象是不可能的。特（tè）殊是在壓（yā）力低的情況下，隨著漏氣現象的影響不（bú）斷（duàn）加劇，真空（kōng）度達不到預（yù）定的工藝要求，是一個相稱普遍的問題。因此，在檢測真空閥或真空係統存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、阻塞漏孔從而消除漏氣現象，就（jiù）成為（wéi）真空技術工作者（zhě）的一項重要工作。
所謂漏氣或稱實漏，它是指（zhǐ）氣體通過真空係統上的漏孔或間隙，從高壓側流向低壓側的一種現象。真空閥檢漏技術中的一些常用基本概念有九點（diǎn）。
其一稱（chēng）為（wéi）虛漏，它是相對於實漏而言的一種物理現象。這（zhè）種（zhǒng）現象（xiàng）大都是由於材（cái）料（liào）的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發或（huò）真空係（xì）統內存在死空間中氣體的流出等原因而引（yǐn）起真空（kōng）係統或真空閥中壓力升高檢漏的一種現（xiàn）象。真空閥檢漏的時（shí）候需要排（pái）除虛（xū）漏的影響。氣密性表征著（zhe）真空係統或（huò）容器的壁對空氣不渴沉（chén）頭程度的一種可能。其三是漏孔，所謂的真空閥漏孔是指真空容器上存在形狀不定、其弱（ruò）小的孔洞或間隙。大氣通過這種小孔或間隙進入真空係統或容器中。第四點是真空漏率，即為真空閥漏氣速（sù）率，它代表在指定的單位時間內通過漏（lòu）孔或間隙流入到真空係統或容器內的氣體量。其五是采用某種檢漏方法或真空儀器可能檢測出來的小（xiǎo）漏率。還（hái）有檢漏敏捷度，或者（zhě）可（kě）稱之為有效敏捷度（dù）。對於它的相應（yīng）時間（jiān）來說，從真空閥檢漏方法開始實施到指示方法（fǎ）或真空儀器指示值上升到其大值的時所需要的（de）時間。而消除時間是指從檢漏方法停止到（dào）指示方法或儀器指示值下降（jiàng）到停止值的所需（xū）時間。後就（jiù）是由灰塵或液體（tǐ）所造成的漏孔阻塞，這些阻塞常常是指由於檢漏作業操作不當而導致發生（shēng）的一種暫時現象，真空閥檢漏時好像不漏氣，但一經排氣又會浮現漏氣的一種現象（xiàng），我們把它稱為漏孔的阻塞現象。